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科技：imec 提高氧濃度優化 EUV 效率，產能有望提升
比利時研究機構 imec 最近提出一項創新技術，透過提高極紫外光（EUV）製程中的氧濃度，成功優化光刻效率。此舉不僅能提升半導體產能，還有助於降低生產成本，對於全球...
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比利時研究機構 imec 最近提出了一項創新技術，透過提高極紫外光(EUV)製程中的氧濃度，顯著提升光刻效率。這一突破有望進一步提升半導體產能，對於未來的晶片製造具有...